Adisyn Ltd (ASX: AI1) 于今日宣布，其在收购2D Generation Ltd (2DG)的交易中成功达成了首个关键的技术里程碑。该里程碑的完成标志着公司在开发用于半导体行业的低温石墨烯沉积技术方面取得了重大突破，并已获得独立专家的验证，为公司的技术商业化路径扫清了一个重要障碍。 根据公告，该里程碑要求公司展示使用原子层沉积(Atomic Layer Deposition, 一种能够逐层沉积物质的高精度薄膜沉积技术) (ALD) 系统，在低于300°C的温度下，将基于sp²的碳层（石墨烯的关键组成部分）沉积到铜基板上。
Adisyn的非执行主席Kevin Crofton强调，温度兼容性是将石墨烯等新材料集成到现有半导体制造流程中的关键约束条件。此次成功验证不仅满足了低于300°C的严格要求，更远低于半导体行业普遍接受的450°C热极限，为技术的商业化应用奠定了坚实基础。 为确保结果的客观性和权威性，该技术成果已由以色列特拉维夫大学精准科学学院的Yoram Selzer教授进行了独立审查和评估。Selzer教授是表面科学和纳米材料领域的专家，他的正式书面确认为Adisyn的技术进展提供了强有力的第三方背书，增强了市场对该公司技术路径的信心。
此项技术验证被视为重要的去风险化步骤，证明了2DG技术的核心可行性。 此项技术成就直接触发了《股份出售与购买协议》(SPA) 中约定的财务条款。Adisyn董事会已批准，将向2DG的原始股东发行1亿股全缴普通股。此外，符合资格的员工也将根据激励安排获得相应股份。这种将股份发行与技术里程碑挂钩的盈利能力支付模式结构，旨在确保Adisyn、2DG创始团队及核心技术人员的利益保持高度一致，共同推动项目向前发展。
展望未来，Adisyn表示将立即进入石墨烯沉积开发计划的下一阶段。公司计划扩大沉积试验，优化沉积参数，并对薄膜的电气特性进行表征，最终目标是实现一个可重复、可扩展的石墨烯生长工艺。Adisyn是一家专注于为半导体行业开发石墨烯解决方案的创新公司，其核心技术旨在解决铜互连的性能瓶颈，从而实现更快、更强、更节能的计算机处理能力。
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